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本書對微納制造技術的各個領域都給出了一個全面透徹的介紹, 覆蓋了集成電路制造所涉及的所有基本單項工藝, 包括光刻、等離子體和反應離子刻蝕、離子注入、擴散、氧化、蒸發、氣相外延生長、濺射和化學氣相淀積等。對每一種單項工藝, 不僅介紹了它的物理和化學原理, 還描述了用于集成電路制造的工藝設備。本書新增了制作納米集成電路及其他半導體器件所需的各種基本單項工藝, 還介紹了22 nm 的FinFET 器件、氮化鎵LED 及薄膜太陽能電池、新型微流體器件的制造工藝流程。