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本書系統介紹了人工晶體生長的基礎理論和相圖技術，在此基礎上全面介紹了人工晶體生長主流技術如水溶液法、助熔劑法、水熱法、焰熔法、提拉法和坩堝下降法等，詳細介紹了上述人工晶體生長技術的基本原理、設備設計與構造、生長工藝以及它們的優缺點等。同時，作者結合自身多年科研工作成果積累，選擇性介紹了幾種重要的光電子晶體材料的生長技術。