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本書介紹了光學元件磁流變拋光理論與關鍵工藝，尤其重點介紹了離軸非球面光學元件磁流變拋光關鍵技術。第一章～第六章側重介紹磁流變拋光的理論和工藝研究，主要針對高精度光學鏡面磁流變拋光過程中的去除函數多參數模型、表面與亞表面質量控制、駐留時間高精度求解與實現、修形工藝優化方法等關鍵問題進行深入研究和實驗驗證；第七章～第十二章以離軸非球面光學零件的高精高效制造為需求牽引，針對離軸非球面磁流變拋光過程中的關鍵理論和工藝問題開展研究，旨在實現面形誤差和特征量參數雙重約束條件下的離軸非球面光學零件的磁流變拋光，形成基于磁流變拋光技術的加工工藝路線，從而進一步提高我國離軸非球面光學零件的制造水平。